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俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具

作者: 时间:2023-10-10 来源:全球半导体观察 收藏

近期,国际新闻通讯社报道,在开发可以替代工具。据悉,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”,可用于蚀刻生产无掩模芯片,这将有助于在微电子领域技术领域获得主动权。

本文引用地址://www.cazqn.com/article/202310/451351.htm

该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备,其中一种工具的成本为500万卢布(约36.7万元人民币),另一种工具的成本未知。

开发人员介绍,传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制,可实现完全自动化,随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构,但也可以制作硅膜,例如用于舰载超压传感器。

这不是俄罗斯首次对外公布有关的消息, 2022年10月,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布朝领域展开工作,该研究所希望能开发俄罗斯首台本土光刻机,用以生产7纳米拓扑芯片。对此,业界认为,这需要数年时间才能实现。



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