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据新加坡《南华早报》(SCMP)报道，中国计划采用一种创新的方法，利用粒子加速器制造芯片处理器，有可能成为先进芯片制造的全球领导者。《南华早报》表示，这种方法旨在避开传统光刻机的限制和美国对EUV技术的制裁，可能会重塑半导体行业的格局。

由清华大学领导的中国研究小组正在利用粒子加速器开发一种独特的EUV光源，目标是避开传统光刻机的限制。拟议中的粒子加速器大约有两个篮球场那么大，周长在100-150米之间，将为芯片制造提供高质量的特定波长的光源。

斯坦福大学的赵武教授介绍了其基础技术——稳态微束(SSMB)。SSMB捕获带电粒子在加速过程中释放的能量，将其转化为连续的纯EUV光源。与目前流行的ASML EUV方法相比，SSMB具有更高的功率和效率，有可能降低芯片生产成本。

团队成员潘志龙教授在2022年1月的一次学术研讨会上说:“清华大学已经设计出了一个SSMB-EUV光源，设计的EUV功率高于1kW，一些关键技术已经准备就绪。”

这一雄心勃勃的项目与专注于芯片制造机器小型化的阿斯麦等公司的战略形成了鲜明对比。相反，中国的愿景是建立一个巨大的工厂，里面有数十台光刻机，都围绕着一个加速器。该设计旨在实现具有竞争力的制造工艺(如2nm及以上)，这些工艺将用于制造高性能芯片，而无需使用传统的极紫外(EUV)光刻机。

清华大学的项目负责人唐传祥教授表示：“作为一种全新的光源，该技术的实验验证已经实现。但有必要建立一个在EUV波段工作的固体SSMB光源研究设备，然后我们可以利用该设备供给工业界使用，并完善SSMB技术。”

据报道，清华大学的团队在这一领域取得了重大进展，现在正在为该项目的建设寻找地点。然而，实现基于SSMB的EUV光刻机的旅程仍然漫长而充满挑战。唐传祥教授强调需要不断创新和跨行业合作来开发一个功能齐全的光刻系统。

“在我们独立开发EUV光刻机之前还有很长的路要走，但基于SSMB的EUV光源为我们提供了一种替代现有技术的选择，需要基于SSMB EUV光源的持续技术创新，并与上下游行业合作，才有机会构建可用的光刻系统。”

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